ASML e Zeiss preparam Hyper NA, tecnologia que pode levar chips além do High NA EUV

Atualizado em 8 de outubro de 2026.

Enquanto a indústria começa a colocar em produção algumas das máquinas mais avançadas já construídas para fabricar chips, a ASML e a Zeiss já estão olhando para o que vem depois.

Engenheiros das duas empresas detalharam uma tecnologia chamada Hyper NA, uma possível sucessora dos atuais sistemas High NA EUV. A expectativa dos pesquisadores é que uma máquina baseada nessa arquitetura possa estar operacional dentro de aproximadamente dez anos.

Parece distante, mas é justamente esse tipo de equipamento que ajuda a definir quais processadores poderão existir no futuro. Quanto mais precisamente uma fabricante consegue imprimir estruturas microscópicas sobre um wafer de silício, maior é a possibilidade de colocar mais componentes em um chip e continuar avançando em desempenho e eficiência energética.

O que é a Hyper NA?

Para entender a novidade, primeiro é preciso olhar para as máquinas que já existem.

A ASML fabrica equipamentos de litografia usados para projetar padrões extremamente pequenos sobre os wafers nos quais os chips são produzidos.

Nos sistemas EUV mais modernos, essa tarefa é feita utilizando luz ultravioleta extrema com comprimento de onda de aproximadamente 13,5 nanômetros e um complexo conjunto de espelhos de altíssima precisão.

A primeira geração de EUV trabalha com abertura numérica — ou NA — de 0,33. A geração mais recente, conhecida como High NA EUV, aumentou esse valor para 0,55.

A proposta da Hyper NA é dar mais um salto e chegar a uma abertura numérica de pelo menos 0,75.

De maneira simplificada, aumentar a abertura numérica permite que o sistema projete detalhes ainda menores durante a fabricação do chip.

Ela pode imprimir estruturas de aproximadamente 5 nm

O objetivo da Hyper NA é chegar perto de uma resolução de 5 nanômetros de half-pitch, contra aproximadamente 8 nm nos atuais sistemas High NA.

Isso representa uma redução superior a um terço no tamanho das estruturas que podem ser impressas em uma única exposição.

Existe, porém, uma diferença importante: esses 5 nm não são o mesmo “5 nm” usado pelas fabricantes para batizar gerações de processadores.

Nomes comerciais como 5 nm, 3 nm ou 2 nm deixaram há bastante tempo de corresponder diretamente a uma dimensão física específica do transistor.

A medida discutida na Hyper NA se refere à capacidade óptica da máquina de litografia de reproduzir padrões extremamente pequenos durante a fabricação.

Por que diminuir esses padrões ainda importa?

Os fabricantes já usam várias estratégias além de simplesmente diminuir componentes. Transistores ganharam estruturas tridimensionais, chips começaram a usar empilhamento e diferentes componentes podem ser reunidos por meio de chiplets.

Mesmo assim, continuar aumentando a densidade de componentes ainda é importante.

Estruturas menores podem ajudar uma fabricante a colocar mais transistores em determinada área ou reduzir o tamanho necessário para realizar determinadas funções.

Dependendo da arquitetura e do processo de fabricação, isso pode se transformar em processadores com mais desempenho, menor consumo de energia ou uma combinação dos dois.

É especialmente relevante em uma época em que chips destinados a inteligência artificial exigem quantidades enormes de transistores e energia.

A parte mais impressionante pode estar nos espelhos

Uma máquina EUV não utiliza lentes convencionais para direcionar sua luz. O comprimento de onda utilizado é absorvido pela maioria dos materiais, por isso o sistema depende de espelhos especiais trabalhando dentro de uma câmara de vácuo.

Esses componentes precisam ser produzidos com precisão extrema.

Segundo o trabalho realizado por ASML e Zeiss, a empresa alemã já possui capacidade para fabricar espelhos com a precisão necessária para uma futura arquitetura Hyper NA.

Os espelhos precisariam crescer significativamente em relação aos utilizados pelas máquinas High NA, mas o tamanho total do equipamento não aumentaria na mesma proporção.

Isso é importante porque as atuais máquinas High NA já são enormes e precisam ser instaladas dentro de fábricas de semicondutores que custam bilhões de dólares.

A ASML não precisa abandonar totalmente a tecnologia atual

Outra vantagem estudada pelos pesquisadores é a possibilidade de manter boa parte do atual ecossistema EUV.

A Hyper NA continuaria utilizando luz com comprimento de onda de 13,5 nm, permitindo inclusive que a atual tecnologia de fonte de luz da ASML seja reaproveitada.

Isso diferencia a proposta de uma mudança ainda mais radical para comprimentos de onda menores, que exigiria o desenvolvimento de vários novos componentes e materiais.

Segundo os pesquisadores, sistemas posteriores à Hyper NA provavelmente precisarão entrar justamente nesse território. Por enquanto, entretanto, alternativas com comprimentos de onda menores continuam principalmente no campo de pesquisa.

High NA ainda está apenas começando

É importante colocar o anúncio em perspectiva: a indústria ainda está no início da adoção da geração anterior.

A tecnologia High NA da ASML utiliza abertura numérica de 0,55 e começou recentemente a entrar em aplicações de produção.

A Intel já utiliza High NA em determinadas etapas de fabricação, enquanto outras grandes fabricantes de semicondutores estão preparando sua adoção nos próximos anos.

Ou seja: a Hyper NA não é uma máquina que aparecerá nas fábricas no ano que vem. Ela representa a próxima etapa de uma evolução tecnológica que acontece durante muitos anos.

Uma máquina Hyper NA ainda não está garantida

Apesar do avanço da pesquisa, ainda existe uma diferença grande entre provar que uma arquitetura pode funcionar e construir uma máquina capaz de operar continuamente dentro de uma fábrica.

A ASML já iniciou trabalhos de desenvolvimento ligados à tecnologia, mas ainda não assumiu um compromisso definitivo de colocar um sistema Hyper NA em produção comercial.

Existem desafios relacionados aos espelhos, máscaras utilizadas para projetar os circuitos, polarização da luz e controle extremamente preciso de todo o processo.

É justamente por isso que uma previsão de aproximadamente dez anos não é tão incomum nesse setor.

Análise BaratoTech: por que isso importa para o seu próximo celular?

Provavelmente ninguém comprará um celular em 2027 porque ele foi produzido por uma máquina Hyper NA. A tecnologia ainda está muito distante dessa etapa.

Mas equipamentos como esse são uma das peças que permitem que a evolução dos chips continue.

Quando um processador consegue entregar mais desempenho consumindo menos energia, o resultado pode aparecer em vários pontos que o consumidor percebe: mais autonomia de bateria, celulares menos quentes, notebooks mais rápidos e chips de inteligência artificial mais poderosos.

Também existe um impacto econômico. Máquinas de litografia cada vez mais sofisticadas são extremamente caras, e fábricas de chips de última geração exigem investimentos gigantescos.

Portanto, reduzir os componentes não significa automaticamente que os aparelhos ficarão mais baratos.

No curto prazo, a Hyper NA não muda nada no preço do celular que você encontrará na loja. No longo prazo, porém, tecnologias desse tipo ajudam a determinar até onde a indústria conseguirá continuar aumentando desempenho sem simplesmente elevar cada vez mais o consumo de energia.

Analiso tecnologia com foco em custo-benefício seguindo as diretrizes editoriais do BaratoTech.

Fontes

• Reuters/Euronext: ASML e Zeiss dizem que tecnologia sucessora pode ficar pronta em cerca de dez anos
• EUV Litho: abstract tecnico “Hyper-NA: an EUV system with a numerical aperture of at least 0.75”
• SPIE: estudo tecnico “Hyper-NA at 13.5 nm”
• ASML: sistemas de litografia EUV e uso de luz de 13,5 nm
• ASML: TWINSCAN EXE:5000, sistema High NA EUV de 0,55 NA
• ZEISS SMT: High NA EUV e optica de espelhos para litografia avancada

Perguntas frequentes

O que é Hyper NA?

Hyper NA é uma proposta para a próxima geração de litografia EUV, com abertura numérica de pelo menos 0,75, acima dos 0,55 utilizados pela atual tecnologia High NA.

A Hyper NA já está pronta?

Não. A tecnologia ainda está em desenvolvimento e pesquisadores estimam que um sistema baseado nela possa estar operacional dentro de aproximadamente dez anos.

A Hyper NA vai fabricar chips de 5 nm?

Não dessa forma. Os aproximadamente 5 nm mencionados representam uma meta de resolução óptica ou half-pitch da litografia, não o nome comercial do processo de fabricação de um chip.

Quem desenvolve a Hyper NA?

A tecnologia está sendo pesquisada por engenheiros da ASML e da Carl Zeiss SMT, parceira responsável por componentes ópticos fundamentais das máquinas de litografia.

Isso pode melhorar celulares e notebooks?

Indiretamente, sim. Litografia mais avançada pode permitir chips com estruturas mais densas e contribuir para futuras gerações com melhor desempenho e eficiência energética, embora o resultado final dependa também da arquitetura e de várias outras tecnologias.